|
| Nama merek: | ROYAL |
| Nomor Model: | RTAS1612 |
| MOQ: | 1 Set |
| harga: | dapat dinegosiasikan |
| Ketentuan Pembayaran: | L/C, T/T |
| Kemampuan Penyediaan: | 10 sets per bulan |
Vacuum Flask Copper Magnetron Sputtering System / Vacuum Flask PVD Cooper Deposition
Terima kasih untuk Teknologi Magnetron Sputtering yang merupakan alternatif nyata untuk
secara definitif mengganti lapisan pelapisan krom/Perak/Emas ke logam/keramik/
bahan resin/plester/kaca dan plastik yang dianggap sebagai pencemar kuat dan membahayakan kesehatan.
Yang paling penting adalah nilai tambah yang dibawa ke produsen.Proses PVD Sputtering
memungkinkan produksi pelapis yang hampir tak terbatas pada semua jenis permukaan yang kompleks.Sebagian besar, untuk
estetika (dekoratif), aplikasi pelapisan fungsional.
Vacuum Flask Tembaga Magnetron Sistem Sputtering -RTSP1618 dirancang dan diproduksi secara eksklusif untuk deposisi cooper labu vakum.Ketebalan lapisan deposit hingga 2 ~ 3 mikron yang memberikan pelestarian panas termal yang sangat baik.
Ketika menambahkan sumber busur katodik, dapat digunakan untuk pelapis eksterior labu vakum untuk menghasilkan berbagai warna dekoratif: hitam, emas, biru, pelangi dll.
Keuntungan Teknologi Vacuum Flask Copper Magnetron Sputtering
1.Ini benar-benar efisien secara ekonomi menghasilkan film pelapis tertipis dan paling seragam;
2.Ini adalah proses pelapisan kering pada suhu rendah di ruang vakum;
3.Ini menawarkan keserbagunaan yang luar biasa, dapat digunakan untuk pengendapan bahan konduktif atau non-konduktif pada jenis apa pun
substrat, seperti: logam, keramik, bahan plastik.
4. Lapisan multi lapisan tersedia.
Vacuum Flask Copper Magnetron Sputtering System Target pelapisan:
Krom ,Target Nikel, Perak, Emas, Titanium diterapkan untuk menghasilkan film tipis berkualitas tinggi di
bagian-bagian yang terbuat dari plastik.
| MODEL | RTSP-1618 | ||
| BAHAN | Baja tahan karat (S304) | ||
| UKURAN RUANG | 1600*1800mm (H) | ||
| SISTEM POMPA | Pompa Vakum Piston Putar | ||
| Pompa Vakum Rotary Vane | |||
| Pompa Vakum Akar | |||
| Pompa Difusi | |||
| TEKNOLOGI | Magnetron Sputtering Coating + Glow discharging | ||
| KONTROL | PLC (Pengontrol Logika yang Dapat Diprogram) + Layar Sentuh | ||
| GAS | Pengukur Aliran Massa Gas | ||
| SISTEM KEAMANAN | Banyak kunci pengaman untuk melindungi operator dan peralatan | ||
| PENDINGINAN | Air | ||
| PEMBERSIHAN | Sumber Plasma | ||
| DAYA MAKS. | 145KW | ||
| KONSUMSI DAYA RATA-RATA | 70KW | ||
Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan Anda solusi pelapisan total.
