Ruang | orientasi horisontal, |
---|---|
Bahan | Baja Tahan Karat 304/316 |
Teknologi | Sputtering, Penguapan, Perawatan Plasma |
Aplikasi | Kertas Elektronik, Film ITO, Sirkuit Fleksibel, Fotovoltaik, Strip Medis, dan RFID. |
Operasi & Kontrol | Kontrol PLC dan IPC yang Intuitif. |
Model pemercikan | Tidak seimbang / seimbang dengan DC, MF, RF |
---|---|
Sumber sputtering | Planar Sputter atau Cylinder Sputter |
Target tergagap | Chromium, Tembaga, Aluminium, Nikel, Perak, Emas, Baja Tahan Karat |
Aplikasi | Velg Mobil, Cermin Mobil, Deposisi Sputtering Perak Dan Emas, Instrumen Medis |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Ruang | Orientasi vertikal, 2 pintu |
---|---|
Bahan | Stainless Steel 304/316 |
Sumber Deposisi | Penguapan filamen termal + Metalized sputtering |
Bahan Deposisi | Tembaga, stainless steel |
Aplikasi | Peralatan Makan Plastik Dan Logam, Keramik, Produk Elektronik, Perumahan Ponsel, Aplikasi NCVM, Bara |
Ruang | Orientasi Horisontal, 1 pintu, |
---|---|
Bahan | Stainless Steel 304/316 |
Teknologi Vakum | Evaporasi Perlawanan Termal |
Sumber Deposisi | Filamen tungsten, perahu Tungsten |
Film Pelapis | Al, Ag, Cr, cermin Cu |
teknologi | teknik penguapan termal pengendapan film tipis |
---|---|
Sumber Penguapan | Filamen termal, perahu termal, kotak termal, batang, cawan lebur |
Bahan Deposisi | Aluminium, emas, perak, kromium, tembaga, Indium, Indium Timah Oksida, Nikel |
Aplikasi | Mebel, Dasbor, Kenop, Kancing, Pelat, Aksesoris Pakaian Fashion Dan Kostum, Bagian Mainan, Produk Ga |
Keuntungan | hemat energi, kapasitas tinggi, kepemilikan rendah, hasil tinggi, mengurangi biaya produksi, |
Teknologi Vakum | Pelapisan Multi Arc katodik, deposisi busur PVD, Magnetron Sputtering oleh DC |
---|---|
Sumber Deposisi | Cylinder arc atau arc cathodes, DC Sputter Source |
Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
Aplikasi Industri | lembaran lembaran stainless besar, tabung dan furnitur SS |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Sumber Deposisi | Sumber Penguapan Wadah |
---|---|
Bahan Deposisi | Lapisan talium(I) iodida, pengendapan Cesium iodida, TII dan CsI, |
Aplikasi Industri | untuk pemeriksaan dan pemeriksaan keamanan, pendidikan fisika energi tinggi, deteksi radiasi nuklir |
Properti | Keseragaman ketebalan tinggi, resolusi pencitraan spasial yang sangat tinggi, dosis sinar-X pasien y |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Sumber Penguapan | Katoda sputtering, sputter gun, DC. Model MF |
---|---|
Bahan Deposisi | Si, Ti, Aluminium, emas, perak, kromium, tembaga, Indium, Indium Tin Oksida, Nikel |
Nama | Mesin Ion Plating |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Model | Sistem pelapisan batch |
---|---|
Lapisan film | adhesi yang kuat, koefisien gesek yang rendah, ketahanan korosi, kepadatan tinggi dan keseragaman. |
Keuntungan | Kapasitas besar, desain cerdas, waktu kerja tinggi dan hasil tinggi, biaya kepemilikan rendah, waktu |
Desain | Ruang oktal, 4 katoda sputtering, 1 sumber ion linier |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Sumber Deposisi | Proses Spec + sumber Ion proses PECVD |
---|---|
Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
Aplikasi | DLC, Hard film, pelapisan film optik oleh Magnetron Sputtering |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Layanan di Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |