Mesin Lapisan Sputtering Magnetron Lapis Tipis Tipis / Lapisan Lapisan Sputtering Tipis Tipis

Royal Technology telah merancang dan menyediakan berbagai sistem pelapis Ultra-High-Vacuum untuk pengajaran dan penelitian ilmiah dan pengembangan penelitian, untuk mempelajari berbagai pertumbuhan film yang berbeda, menghasilkan film tipis NANO yang lebih inovatif yang diterapkan pada industri komersial kami. Pelanggan kami seperti: Universitas Shanghai di China, Universitas Machanster Inggris, Universitas Ilmiah Beijing, Semikonduktor, Sel Surya, sel bahan bakar, organisasi ilmiah yang meneliti dan departemen fisika energi tinggi dll.

Mesin Lapisan Sputtering Magnetron Tipis Tipis: katoda sputtering DC, MF, RF untuk tujuan R & D bisa mendapatkan monolayer, film dielektrik, film majemuk, semikonduktor, beberapa lapisan, film komposit, dan film dielektrik dll.

Lapisan Magnetron Magnetron Pelapis Lapisan Lapis Baja Kinerja Teknis:

1 Ultimate Vacuum Pressure: lebih baik dari 5,0 × 10-6 Torr.

2. Tekanan Vacuum Operasi: 1.0 × 10-4 Torr.

3. Waktu Pumpingdown: dari 1 atm sampai 1.0 × 10-4 Torr≤ 3 menit (suhu kamar, ruang kering, bersih dan kosong)

4. Metalizing material (sputtering) Al, Cr, Sn, Ti, SS, Cu ... dll.

5. Operating Model: Full Automatically / Semi-Auto / Manual

Lapisan Lapisan Lapisan Magnetron Magnetron Lapis Tipis

1. Kamar Vakum

2. Rouhging Vacuum Pumping System (Backing Pump Package)

3. Sistem Vacuum Pumping Tinggi (Difusion Pump)

4. Sistem Pengendalian dan Pengoperasian Listrik

5. Sistem Fasilitas Auxiliarry (Sub Sistem)

6. Sistem Deposisi

Sistem Lapisan Sputtering Magnetron Lapis Tipis Laboratorium juga dapat dikombinasikan dengan sumber katoda dan penguapan untuk aplikasi penelitian lebih lanjut. Silahkan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan solusi pelapisan total.