Teknologi Vakum | Penguapan busur + MF Magnetron Sputtering |
---|---|
Sumber Deposisi | MF Cylinder Sputtering + Katoda busur |
Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
Aplikasi Industri | Keramik dan peralatan rumah kaca pelapis keras pada perkakas |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Ruang | Orientasi Horizontal |
---|---|
Bahan | Stainless Steel 304/316 |
Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD |
Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic / sistem pengendapan arc cathodic |
Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu |
---|---|
Film Deposisi | Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr dll. |
Aplikasi | Al2O3, papan sirkuit keramik AlN, pelat Al2O3 pada LED, semikonduktor |
Fitur Film | Konduktivitas Termal yang lebih baik, daya rekat yang kuat, kepadatan tinggi, biaya produksi rendah |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Teknologi Pelapisan | PECVD, sputtering, sumber plasma ion |
---|---|
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Layanan di Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |
Layanan di Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |
Layanan di Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |
Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu, |
---|---|
Bahan | Stainless Steel 304/316 |
Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD |
Sumber Deposisi | Cylinder arc atau arc arc cathode |
Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu, |
---|---|
Bahan | Stainless Steel 304/316 |
Teknologi Vakum | Katodik Multi Arc plating, penguapan busur PVD, magnetron Sputtering MF |
Sumber Deposisi | katoda busur melingkar |
Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
Sumber Deposisi | Proses Spec + sumber Ion proses PECVD |
---|---|
Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
Aplikasi | DLC, Hard film, pelapisan film optik oleh Magnetron Sputtering |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Layanan di Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |
break | Steed Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
---|---|
Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
Properti Plating PVD | Ketahanan aus yang tinggi, Kekerasan tinggi pada suhu operasi yang tinggi, Ketahanan oksidasi yang t |
Fitur Peralatan | Desain yang andal, Fleksibel, stabil, kuat, hasil tinggi, waktu siklus cepat, kapasitas batch besar |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
Sumber Deposisi | Cylinder Sputtering Dan Circular Arc Cathodes |
---|---|
Aplikasi industri | Barang Keramik Dan Rumah Kaca, Meja Stainless Steel, Baja, Furniture, Meja, Kursi, Jam Tangan dan Ja |
Film Pelapis | Pelapisan Film Logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
teknologi | Magnetron Sputtering |
Kekosongan | Arc Evaporation + MF |
Sumber Deposisi | Sputtering + penguapan busur katodik |
---|---|
Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
Aplikasi | Perhiasan logam, jam tangan, kalung, cincin telinga, cincin jari, gelang, rantai tas tangan, logo |
Fitur Film | warna-warna cerah, ketahanan aus, adhesi yang kuat, warna pelapis dekoratif |
Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |