| Sumber Penguapan | Wadah tembaga |
|---|---|
| Bahan Deposisi | Serbuk Karbon, C60 |
| Aplikasi | semikonduktor, sensor, sel bahan bakar, dan pelapis optik. |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Sumber Deposisi | MF / DC sputtering + Arc cathodes |
|---|---|
| Film Deposisi | Pelapis keras, DLC, pelapis film optik, pelapis dekoratif |
| Aplikasi | Proses PECVD, DLC film, Berlian Seperti Karbon Film, Film Optik Sputtering, |
| Fitur Film | Reflektif Tinggi, Korosi Sangat Baik Dan Tahan Aus |
| Warna Pelapis | Warna Hitam Dan Rose Gold, Lapisan Warna Biru |
| Sumber Deposisi | Saldo / Tidak Tertimbang Magnetik Ditempatkan |
|---|---|
| Aplikasi | Otomotif, semikonduktor, Lapisan SiC, deposisi film DLC, |
| Ketebalan film | Berkisar dari 100 nm hingga 12μm, toleransi ketebalan ± 5% |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Sumber Deposisi | MF / DC sputtering + Arc cathodes |
|---|---|
| Film Deposisi | Pelapis keras, DLC, pelapis film optik, pelapis dekoratif |
| Aplikasi | Proses PECVD, DLC film, Berlian Seperti Karbon Film, Film Optik Sputtering, |
| Fitur Film | Reflektif Tinggi, Korosi Sangat Baik Dan Tahan Aus |
| Struktur Peralatan | struktur 2 pintu depan dan belakang |
| teknologi | Tembaga Berlapis Langsung, sistem PVD magnetron Sputtering |
|---|---|
| Pra-pembersihan | Pra-perawatan plasma sumber Anode Ion |
| Katup sputtering | MF 4 set; DC 2 set |
| Target yang tergagap | Au Emas, Perak Ag, Tembaga, Aluminium, ITO, Ti, Cr, Stainless Steel dll. |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Sumber Deposisi | MF / DC sputtering + Arc cathodes |
|---|---|
| Film Deposisi | Pelapis keras, DLC, pelapis film optik, pelapis dekoratif |
| Aplikasi | Proses PECVD, DLC film, Berlian Seperti Karbon Film, film Optik Sputtering, |
| Fitur Film | Reflektif Tinggi, Korosi Sangat Baik Dan Tahan Aus |
| Warna Pelapis | Warna Hitam Dan Rose Gold, Lapisan Warna Biru |
| Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD, Magnetron Sputtering oleh DC |
|---|---|
| Sumber Deposisi | Cylinder arc atau arc arc cathode, Sumber DC Sputter |
| Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
| Aplikasi | penyiraman pipa dan penggarap; perlengkapan kamar mandi dan katup faucet, |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu |
|---|---|
| Film Deposisi | Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr dll. |
| Aplikasi | Al2O3, papan sirkuit keramik AlN, pelat Al2O3 pada LED, semikonduktor |
| Fitur Film | Konduktivitas Termal yang lebih baik, daya rekat yang kuat, kepadatan tinggi, biaya produksi rendah |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Sumber Deposisi | Magnetron DC / MF Sputtering + Busur Katodik yang Dikemudikan |
|---|---|
| Film deposisi | Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr dll. |
| Aplikasi | Chip Keramik LED dengan Cooper Plating, Al2O3, papan sirkuit keramik AlN, pelat Al2O3 pada LED, semi |
| Fitur Film | ketahanan aus, daya rekat kuat, warna pelapis dekoratif |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi vertikal, 2 pintu |
|---|---|
| Bahan | baja tahan karat 304/316 |
| Sumber Deposisi | Katoda Sputtering DC |
| Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
| Aplikasi | dekorasi perhiasan, jam tangan, pelapis film konduktif, film logam, elektronik, sel bahan bakar, ene |
