Hidrogen FCEV Bipolar Plates PVD Gold Sputtering Coating Machine

Emasmemiliki warna kuning kemerahan yang cerah dalam bentuk yang paling murni.jadi tetap sangat stabil dalam kondisi normal dan konduktivitas listriknya konstanIni adalah salah satu logam mulia yang paling umum digunakan dalam finishing.

Emas tahan korosi, yang membuatnya menjadi finishing yang baik untuk pin konektor dan kontak saklar listrik.

Plating emas digunakan dalam bagian dan komponen di berbagai industri utama:

1.Aplikasi medis: implan tubuh

2.Energi: sel bahan bakar hidrogen Plat bipolar

3.Semikonduktor: chip mikroelektronik

4.Aerospace & pertahanan

5.Telekomunikasi dan lainnya

ROYAL Teknologi memasok solusi pelapis turnkeyuntuk produsen yang mencaritim yang dapat diandalkan untuk kerja sama jangka panjang.

Desain yang kuat, batch besar, siklus cepat, proses pelapisan yang fleksibel adalah konsep desain dasar yang telah dikejar oleh tim Royal.

Keuntungan Desain

1.Penghematan energi: desain kompak dan pompa molekul diterapkan

2.Penggunaan target tinggi hingga 40% dengan katode penyemprotan planar

3.Film emas Au yang disemprot️ketebalan s dapat dikontrol

4. Sistem operasi One-Touch

Pengembangan Industri FCEV Hidrogen

Saat ini lebih penting daripada sebelumnya bagi produsen untuk mengembangkan dan menemukan solusi pelapis terbaik untuk mencapai kualitas produk maksimum dan biaya produksi terendah, sambil melestarikan lingkungan kita.Terutama di industri mobil, yang memiliki biaya produksi yang tinggi, para ilmuwan telah mencari tanpa henti alternatif untuk bensin, yang terbatas dalam pasokan dan mencemari planet kita.Negara seni PVD Vacuum Coating Technology memberikan solusi yang paling efisien untuk semua masalah penting ini.

Solusi Royal Technology pada Lapisan Plat Bipolar Hidrogen FCEV

FC stack berisi serangkaian membran yang dilapisi katalis dan pelat baja tahan karat, yang disebut “bipolar plates”.Lapisan khusus ini memberikan ketahanan kontak yang rendah dan mencegah korosi sepanjang umur sel bahan bakar.

Keuntungan Teknis

Teknologi Royal FCEV1213
Peralatan Lapisan Bipolar Untuk FCEV Hidrogen

Teknik inti adalah bagaimana menghasilkan energi listrik dengan modul tenaga sel bahan bakar melalui reaksi elektrokimia antara hidrogen sebagai bahan bakar dan oksigen.Profesor dari organisasi transportasi dan produsen kendaraan di seluruh dunia telah melakukan ribuan tes dan akhirnya mengembangkan pengolahan yang tepat.

Royal Technology telah bekerja sama erat dengan pelanggan dalam 5 tahun terakhir dan berhasil merancang dan memproduksi efisiensi tinggi, dikomersialkan dan sistem deposisi sputtering standar.Kami sangat percaya bahwa teknologi ini akan mengganggu industri kendaraan.

• Mesin FCEV1213 adalah pabrik model batch pertama untuk produksi industri yang kami sediakan.
  Struktur:
  Orientasi vertikal, struktur segi delapan, 2 pintu terbuka (depan dan belakang) untuk akses mudah.
  
  Fitur:
• Sistem ramah lingkungan, tidak ada limbah berbahaya
• Desain terintegrasi, modular
• Dikomersialkan dan standar untuk produksi massal industri
• Sumber ion yang sangat efisien untuk adhesi yang kuat dan ionisasi yang tinggi
• Operasi mudah: layar sentuh + kontrol PLC, satu operasi sentuh
• Dengan perangkat lunak Royal Technology, parameter proses dapat diprogram, disimpan dan direproduksi
• Desain khusus sistem Carousel untuk deposisi yang sangat seragam
• Produktivitas tinggi dan stabilitas, bekerja 24/7 seminggu
• Fleksibel, cocok dengan berbagai ukuran plat, untuk lapisan sisi tunggal atau ganda
  
  Perangkat Sumber Ion Linear untuk Plasma Etching dan Plasma Assisted Deposition yang memiliki kinerja canggih
  1) Pra-pembersihan, proses etching plasma yang dioperasikan dalam lingkungan vakum yang tinggi, untuk menghindari kontaminasi benda kerja
  2) Untuk meningkatkan adhesi antara substrat dan film pelapis
  3) Bantuan Deposisi selama lapisan, meningkatkan keseragaman.
  
  

Parameter teknis

Model: FCEV1213

Ketinggian ruangan (mm): 1300

Diameter ruangan (mm): φ1200

Pintu ruang vakum: 2 set depan dan belakang terbuka

Sputtering Cathodes Mounting Flange: 6
Flange pemasangan sumber ion 1

Satelit: 24 xΦ120mm

Daya: DC + Bias

Tinggi pelapis efektif (mm): 850

Pompa Molekuler Suspensi Magnetik: 2 x 2200L/S

Pompa Akar: 1 x 1000m3/h

Pompa Vane Rotary: 1 x 300m3/h

Pompa tahan: 1 x 60m3/h

Ukuran substrat (mm): 420 x 120 / 450 x 250 / 440 x 140/ 297 x 210 dan lainnya

Kapasitas: 40 ~ 80 tergantung pada

Luas instalasi (L x L x H) mm: 3000*4000*3200
 

Dilengkapi dengan katode magnetron Genco yang seimbang dan tidak seimbang.

Insite

Waktu Bangunan: Sejak 2016

Lokasi: Shanghai Cina

Silakan hubungi kami untuk aplikasi Anda, kami merasa terhormat untuk melayani Anda dengan layanan yang sangat baik dan kualitas.