|
| Nama merek: | ROYAL |
| Nomor Model: | Bahasa Inggris RTSP |
| MOQ: | 1 Set |
| Kemampuan Penyediaan: | 10 sets per bulan |
Tantalum PVD Sputtering Coating Machine, Tantalum film ditempatkan oleh DC Magnetron Sputtering, PVD Tantalum Plating
Tantalum paling banyak digunakan dalam industri elektronik dan sebagai lapisan pelindung di banyak industri karena ketahanan yang baik terhadap erosi.
Film tantalum yang disemprotkan banyak digunakan dalam
1Industri mikroelektronika karena film dapat secara reaktif disemprotkan dan dengan demikian resistivitas dan koefisien suhu resistensi dapat dikendalikan;
2Instrumen medis seperti implan tubuh untuk sifat biokompatibilitasnya yang tinggi;
3. Lapisan pada bagian tahan korosi, seperti thermowell, tubuh katup, dan pengikat;
Tantalum yang disemprotkan juga dapat digunakan sebagai penghalang tahan korosi yang efektif jika lapisan yang berkelanjutan, cacat dan melekat pada substrat dimaksudkan untuk melindungi.
RTAS1000 Keuntungan Teknis
1. Plug-in Sistem desain terintegrasi untuk instalasi cepat
2. Siemens PLC,CPU; dengan operasi PC Industri & perangkat keras kontrol
3Tersedia untuk pemantauan dan diagnosis jarak jauh.
4. Fleksibel, siap untuk upgrade
5. Beberapa katode untuk kecepatan deposisi cepat
Manfaat lain dari mesin:
Desain yang Kuat, Kualitas yang Stabil, Siklus Cepat, Waktu Siklus Cepat, Kecepatan Pengendapan Tinggi
| Konfigurasi Utama | |
| Model | RTAS1000 |
| TEKNOLOGI | DC magnetron sputtering + Catodic arc plating |
| Bahan kamar | Baja tahan karat (S304) |
| Ukuran Kamar | Φ1000*1000mm (H) |
| Tipe kamar | Bentuk D, ruang silinder |
| RAK ROTASI & JIG SYSTEM | Sistem pengemudi satelit atau sistem pengemudi pusat |
| Sumber Daya Listrik | DC Sputtering Power Supply: 2 ~ 4 set Bias Power Supply: 1 set Arc Power Supply: 11 set |
| Materi Deposisi | Ti/Cr/TiAl, Ta, Au, Ag, Cu dll. |
| Sumber Deposisi |
Katode Sputtering Planar + katode busur melingkar Catatan: Sputter DC silinder tersedia |
| Pengendalian | PLC ((Programmable Logic Controller) + Touch Screen (manual + otomatis + semi-otomatis operasi model) |
| Sistem pompa | Pompa Vane Rotary: SV300B - 1 set (Leybold) |
| Pompa Akar: WAU1001 - 1 set (Leybold) | |
| Pompa penahan: D60C - 1 set (Leybold) | |
| Pompa Molekuler Suspensi Magnetik: MAG2200 - 2 sest (Leybold) | |
| Pengontrol Aliran Massa Gas | 4 saluran, Made in China, Seven Star (seri CS, ) model digital (Ar, N2, O2, C2H2) |
| VACUUM GAGE | Model: ZDF-X-LE, Dibuat di Cina |
| Sistem Keamanan | Banyak penguncian keamanan untuk melindungi operator dan peralatan |
| Pemanasan | Pemanas: 20KW. Max. temp.: 450°C |
| COOLING | Industrial Chiller (Air Dingin) |
| Power Max. | 100KW (sekitar.) |
| Rata-rata konsumsi daya | 45 KW (sekitar.) |
| Berat Bruto | T (sekitar.) |
| TEMPAT kaki | (L*W*H) 4000*4000*3600 MM |
| Kekuatan Listrik | AC 380V / 3 fase / 50HZ / 5 garis |
Katode sputtering silinderik Katode penyemprotan datar
Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk menyediakan solusi pelapis lengkap.
Unduh brosur, silakan klik di sini:Sistem Deposisi Magnetron Sputtering.pdf
Aplikasi sistem Magnetron Sputtering Deposisi...
