|
| Nama merek: | ROYAL |
| Nomor Model: | RTAS1000-IPG |
| MOQ: | 1 Set |
| harga: | dapat dinegosiasikan |
| Ketentuan Pembayaran: | L/C, T/T |
| Kemampuan Penyediaan: | 6 set per bulan |
IPG dilapisi emas dengan DC Magnetron Sputtering Deposition Sources, Planar Sputtering Cathode Au Gold Plating
Mesin lapisan vakum lencana pin logammenggabungkan teknik Sputtering dan arc evaporation, yang terutama digunakan pada perhiasan logam dan jam tangan, tas tangan dan aksesoris logam.
Model standar adalah RTAC1250-SP, mesin ini berisi sumber deposit utama dari:
1. Dua set MF Sputtering Katode
2. 1 set katode sputtering DC planar / silinder
3. 1 set Katode Silinder Arc atau 7 set katode busur beriringan
4. 1 set unit sumber ion untuk pemurnian plasma pemboman sebelum deposisi PVD, sangat meningkatkan adhesi film dan warna yang jauh lebih cerah.
Mesin plating emas IPG terutama digunakan dalam perhiasan, jam tangan, jam tangan, alat tulis pena, tas dan sepatu bagian logam high-end (mewah merek terkenal produk,Produk elektronik bagian logam seperti telepon, Kamera, remote controller,
Spesifikasi RTAC1250-SP
| Model | RTAC1250-SP | ||||||
| TEKNOLOGI | Magnetron Sputtering + Ion Plating | ||||||
| Bahan | Baja tahan karat (S304) | ||||||
| Ukuran Kamar | Φ1250*H1250mm | ||||||
| Tipe kamar | Silinder, vertikal, 1 pintu | ||||||
| Sistem penyemprotan | Hanya dirancang untuk deposisi film hitam tipis | ||||||
| Materi Deposisi | Aluminium, Perak, Tembaga, Chrome, Baja tahan karat, Nikel, Emas, TiAl, paduan Au, Ag dll. |
||||||
| Sumber Deposisi | 2 set MF Cylindrical Sputtering Targets + 1 Sumber Arc Cathodic + 1 DC sputtering + 1 Sumber Ion | ||||||
| GAS | MFC- 4 cara, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| Pengendalian | PLC ((Programmable Logic Controller) + | ||||||
| Sistem pompa | SV300B - 1 set (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 set (Leybold) | |||||||
| D60T- 2 set (Leybold) | |||||||
| Pompa Molekuler Turbo: 2* F-400/3500 | |||||||
| PRE-TREATMENT | Sumber daya bias: 1*36 KW | ||||||
| Sistem Keamanan | Banyak penguncian keamanan untuk melindungi operator | ||||||
| COOLING | Air dingin | ||||||
| Kekuatan Listrik | 480V/3 fase/60HZ (sesuai dengan AS) | ||||||
| 460V/3 fase/50HZ (sesuai Asia) | |||||||
| 380V/3 fase/50HZ (sesuai dengan CE-EU) | |||||||
| TEMPAT kaki | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| Total Berat | 7.0 T | ||||||
| TEMPAT kaki | (L*W*H) 5000*4000*4000 MM | ||||||
| Waktu Siklus | 30 ~ 40 menit (tergantung pada bahan substrat, Geometri substrat dan kondisi lingkungan) |
||||||
| Power Max.. | 155 KW | ||||||
|
Daya rata-rata Konsumsi (KURAT) |
75 KW |
Sampel lapisan emas IPG
Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk menyediakan solusi pelapis lengkap.
Aplikasi Arc + Sputtering Coater dan modus.pdf...
Arc + Sputtering mesin lapisan vakum.pdf
MF magnetron sputtering + evaporation arc katoda...
Untuk mengunduh brosur, silakan klik tautan di atas.
Untuk menonton video, silakan klik di bawah ini
