Gelang PVD Mesin Pelapisan Emas, Peralatan Statingles Steel Bracelet Gold Plating, Pelapisan Emas PVD Apa itu PVD?
PVD (adalah nama pendek dari Physical Vapor Deposition) adalah proses pelapisan vakum untuk menghasilkan film tipis berbasis logam konformal yang dapat disimpan secara merata pada permukaan yang konduktif secara elektrik. Menggunakan penguapan ion Arc dan metode sputtering magnetron MF, lapisan pelapis tunggal memberikan cakupan yang luas tanpa mengubah profil permukaan. Teknik ini digunakan di banyak industri elektronik termasuk media optik, optik dan komponen semikonduktor.
Properti Film Tipis PVD
- Selesai estetika yang luar biasa
- Ketebalan lapisan seragam
- Daya tahan unggul terhadap aus dan korosi
- Lapisan PVD memiliki tingkat kekerasan yang tinggi
Precision Fasteners PVD Thin Film Plating Machine diterapkan dengan pengencang dan alat kelengkapan seperti sekrup, baut, crushes, fitting, topi yang digunakan dalam kosmetik, produk elektronik, mesin mekanik, industri otomotif secara luas menggunakan teknologi PVD untuk mendapatkan berbagai warna Panton, berbagai emas, hitam, biru, abu-abu, perak, pelangi, perunggu, champage dll.
Sumber Pengencang Presisi PVD Thin Film Plating Mesin Sumber Deposisi
Sumber-sumber Circular Circular Arc untuk penguapan target logam padat;
2 pasang MF sputtering unblanced untuk deposisi lapisan film tipis grafit;
Catu Daya Bias untuk penimbunan ion untuk membentuk area plasma untuk pra-perawatan;
Unit Sumber Ion Linear Anoda (untuk opsional) pemrosesan PACVD dan PECVD;
Cryopump (Polycold) untuk kondensasi molekul air (untuk opsional)
Struktur Pengencang Presisi PVD Thin Film Plating Machine
1. Ruang Vakum
2. Rouhging Vacuum Pumping System (Paket Pompa Pendukung)
3. Sistem Pemompaan Vakum Tinggi (Pompa Molekul Suspensi Magnetik)
4. Kontrol Listrik dan Sistem Operasi
5. Sistem Fasilitas Bantu (Sub Sistem)
6. Sistem Deposisi: katoda sputtering MF, catu daya MF, sumber Ion Catu Daya Bias untuk opsional
Pengencang Presisi Kinerja Film Tipis Plating PVD
1. Tekanan Vakum Tertinggi: lebih baik dari 5,0 × 10 - 6 Torr.
2. Mengoperasikan Tekanan Vakum: 1,0 × 10 - 4 Torr.
3. Waktu Pumpingdown: dari 1 atm ke 1.0 × 10 - 4 Torr≤ 3 menit (suhu kamar, ruang kering, bersih dan kosong)
4. Metalizing material (sputtering + Arc evaporation): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, dll.
5. Model Pengoperasian: Penuh Otomatis / Semi-Otomatis / Secara Manual
Spesifikasi Pengencang Presisi PVD Thin Film Plating Machin Spesifikasi
| MODEL | RTAC1250-SPMF |
| TEKNOLOGI | MF Magnetron Sputtering + Ion Plating |
| BAHAN | Baja Tahan Karat (S304) |
| UKURAN CHAMBER | Φ1250 * H1250mm |
| JENIS CHAMBER | Silinder, vertikal, 1 pintu |
| SISTEM MENGGUGAT | Desain eksklusif untuk deposisi film hitam tipis |
| BAHAN DEPOSISI | Aluminium, perak, tembaga, krom, stainless steel,
Nikel |
| SUMBER DEPOSISI | 2 set Target Sputtering Silinder MF + 8 Sumber Arc Cathodic Kemudi + Sumber Ion Untuk opsional |
| GAS | MFC-4 cara, Ar, N2, O2, C2H2 |
| KONTROL | PLC (Programmable Logic Controller) + |
| SISTEM POMPA | SV300B - 1 set (Leybold) |
| WAU1001 - 1 set (Leybold) |
| D60T- 1 set (Leybold) |
| Pompa Molekul Turbo: 2 * F-400/3500 |
| PRE-TREATMENT | Catu daya bias: 1 * 36 KW |
| SISTEM KESELAMATAN | Sejumlah kunci pengaman untuk melindungi operator |
| PENDINGINAN | Air dingin |
| LISTRIK TENAGA LISTRIK | 480V / 3 fase / 60HZ (Sesuai dengan USA) |
| 460V / 3 fase / 50HZ (Sesuai Asia) |
| 380V / 3 fase / 50HZ (EU-CE compliant) |
| TAPAK | L3000 * W3000 * H2000mm |
| BERAT KESELURUHAN | 7.0 T |
| TAPAK | (L * W * H) 5000 * 4000 * 4000 MM |
| WAKTU SIKLUS | 30 ~ 40 menit (tergantung pada bahan substrat,
geometri substrat dan kondisi lingkungan) |
| POWER MAX .. | 155 KW |
KEKUATAN RATA RATA
KONSUMSI (APPROX.) | 75 KW
|
Ukuran mesin yang disesuaikan juga tersedia berdasarkan produk yang diminta.
Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan Anda solusi pelapisan total.
Pesan Anda harus antara 20-3.000 karakter!
