|
| Nama merek: | ROYAL |
| Nomor Model: | RTAS1250 |
| MOQ: | 1 Set |
| harga: | dapat dinegosiasikan |
| Ketentuan Pembayaran: | L / C, D / A, D / P, T / T |
| Kemampuan Penyediaan: | 2 set per bulan |
Mesin Pelapisan Sputtering Magnetron DC dan MF, Solusi Pelapisan PVD Hitam Tua
Lapisan Sputtering Magnetron
Lapisan plasma
Magnetron sputtering adalah proses pelapisan plasma dimana material sputtering dikeluarkan karena bombardir ion ke permukaan target.Ruang vakum mesin pelapis PVD diisi dengan gas inert, seperti argon.Dengan menerapkan tegangan tinggi, pelepasan cahaya dibuat, menghasilkan percepatan ion ke permukaan target dan lapisan plasma.Ion argon akan mengeluarkan bahan sputtering dari permukaan target (sputtering), sehingga menghasilkan lapisan pelapis sputtering pada produk di depan target. Teknologi sputtering magnetron ditandai dengan:
| MODEL | RTAC1250-SPMF | ||||||
| TEKNOLOGI | MF Magnetron Sputtering + Pelapisan Ion | ||||||
| BAHAN | Baja tahan karat (S304) | ||||||
| UKURAN RUANG | 1250 * H1250mm | ||||||
| JENIS RUANG | Silinder, vertikal, 1 pintu | ||||||
| SISTEM SPUTTER | Desain eksklusif untuk deposisi film hitam tipis | ||||||
| BAHAN DEPOSISI | Aluminium, Perak, Tembaga, Krom, Baja Tahan Karat, Nikel |
||||||
| SUMBER DEPOSISI | 2 set Target Sputtering Silinder MF + 8 Sumber Busur Katodik yang Dikemudikan + Sumber Ion Untuk opsional | ||||||
| GAS | MFC- 4 cara, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| KONTROL | PLC (Pengontrol Logika yang Dapat Diprogram) + | ||||||
| SISTEM POMPA | SV300B - 1 set (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 set (Leybold) | |||||||
| D60T- 1 set (Leybold) | |||||||
| Pompa Molekul Turbo: 2* F-400/3500 | |||||||
| PRA-PERAWATAN | Catu daya bias: 1 * 36 KW | ||||||
| SISTEM KEAMANAN | Banyak kunci pengaman untuk melindungi operator | ||||||
| PENDINGINAN | Air dingin | ||||||
| LISTRIK LISTRIK | 480V/3 fase/60HZ (sesuai dengan AS) | ||||||
| 460V/3 fase/50HZ (sesuai Asia) | |||||||
| 380V/3 fase/50HZ (sesuai dengan EU-CE) | |||||||
| TAPAK | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| BERAT KESELURUHAN | 7,0 T | ||||||
| TAPAK | ( L*W*H) 5000*4000 *4000 MM | ||||||
| WAKTU SIKLUS | 30~40 menit (tergantung bahan substrat, geometri substrat dan kondisi lingkungan) |
||||||
| KEKUATAN MAKS.. | 155 KW | ||||||
| KEKUATAN RATA RATA KONSUMSI (Kira-kira.) |
75 KW |
Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan Anda solusi pelapisan total.
