Name: Mesin Sputtering Magnetron Film Tipis Konduktif Tembaga, Tekstil Nilon dengan deposisi film tipis Cu
Brand: ROYAL
SKU: RTSP
Price: 1 USD
Availability: InStock
Rating: 4.8 (175 reviews)

fitur Galeri Deskripsi Produk Quote request suatu

fitur

Informasi dasar

Tempat asal: BUATAN CHINA

Nama merek: ROYAL

Sertifikasi: CE certification

Nomor model: RTSP

Cahaya Tinggi:

magnetron sputtering machine

magnetron sputtering equipment

Syarat-syarat pembayaran & pengiriman

Kemasan rincian: palet

Waktu pengiriman: 8 sampai 12 minggu

Syarat-syarat pembayaran: L / C, D / A, D / P, T / T, Western Union, MoneyGram,

Menyediakan kemampuan: 10 sets per bulan

Spesifikasi

Fitur film: Reflektif Tinggi, Korosi Yang Sangat Baik Dan Ketahanan Aus

Teknologi: Magnetron Sputtering

Bahan: baja tahan karat 304/316

Nama: Mesin Pelapis Film Tipis Tembaga

Struktur: Pintu Ganda Vertikal

Lokasi Pabrik: kota shanghai, cina

Layanan di Seluruh Dunia: Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India

Layanan Pelatihan: Pengoperasian mesin, perawatan, proses pelapisan Resep, program

Jaminan: Garansi terbatas 1 tahun gratis, seumur hidup untuk mesin

Jaminan: Garansi terbatas 1 tahun gratis, seumur hidup untuk mesin

OEM & ODM: tersedia, kami mendukung desain dan fabrikasi yang dibuat khusus

Galeri

Deskripsi Produk

Mesin Lapisan Sputtering Magnetron Film Tipis Tembaga / Unit Pelapis Film Konduktif Cu Tekstil Nilon

Tembaga Tekstil NilonPelapis Vakum Magnetron Sputtering

1) Kontrol ketebalan film dan pengulangan yang baik, dapat menjadi sistem yang andal dari ketebalan film yang telah dilapisi sebelumnya dan sputtering di permukaan film seragam yang lebih besar;
2) Daya rekat film dan substrat sangat baik.Beberapa atom tergagap energi tinggi untuk menghasilkan berbagai tingkat fenomena injeksi, lapisan pseudo-difusi terbentuk pada lapisan substrat atom tergagap dan atom substrat menyatu satu sama lain;
3) Persiapan bahan khusus film, Anda dapat menggunakan bahan yang berbeda dan film hibrida sputtering, film majemuk, juga dapat disemprotkan ke dalam film emas imitasi TiN.

Tembaga Tekstil NilonSpesifikasi Magnetron Sputtering Vacuum Coater

Mesin Pelapis Magnetron Sputtering
Pertunjukan RTSP-700 RTSP-900 RTSP-1000 RTSP-1250 RTSP-1400 RTSP-1600
Ukuran ruang pelapis 700 * H900mm 900 * H1100mm 1000 * H1200mm 1250 * H1350mm 1400 * H1600mm 1600 * H1800mm
Jenis catu daya: Catu daya filamen, catu daya bias pulsa, catu daya magnetron DC, catu daya magnetron frekuensi menengah, catu daya magnetron frekuensi radio, sumber ionisasi linier
Struktur ruang vakum Pintu ganda vertikal, struktur pintu depan vertikal, sistem pembuangan udara belakang
Bahan ruang vakum Rongga baja tahan karat berkualitas tinggi
Batasi vakum 6.0*10-4Pa
Waktu pompa-down (tanpa beban) Pompa atmosfer ke 8.0 * 10^-3>Pa 15 menit
Sistem akuisisi vakum Pompa difusi atau pompa molekuler + Pompa akar + Pompa mekanis + pompa baling-baling putar (model spesifik dapat dikonfigurasi sesuai dengan kebutuhan pelanggan)
Mode pelapisan Lapisan sputtering magnetron
Jenis film Film logam, film reaktif, film majemuk, film multilayer dan film semikonduktor
Jenis target magnetron Target magnetron persegi panjang, target magnetron silinder dan target magnetron kembar
Daya suplai magnetron dan jumlah target magnetron Pilih sesuai dengan proses pelapisan dan kebutuhan pelanggan yang berbeda
Catu daya bias 10KW/1 unit 20KW/1 unit 20KW/1 unit 30KW/1 unit 40KW/1 unit 50KW/1 unit
Mode putar meja putar benda kerja Revolusi planet dan autorotasi, pengaturan kecepatan frekuensi variabel (dapat dikontrol dan disesuaikan)
Gas proses Kontrol aliran gas dan sistem tampilan 3-jalur atau 4-jalur, sistem gas otomatis selektif
Mode pendinginan Mode pendinginan sirkulasi air, menara air pendingin atau pendingin air industri atau sistem pendingin dalam.(Disediakan oleh pelanggan)
Mode kontrol Mode integrasi manual/otomatis, operasi layar sentuh, PLC atau kontrol komputer
Kekuatan total 30KW 35KW 40KW 50KW 65KW 80KW
Alarm dan perlindungan Alarm kekurangan air, arus lebih dan tegangan berlebih, sirkuit terbuka dan kondisi abnormal lainnya dari pompa, target, dan sebagainya dan lakukan tindakan perlindungan yang relevan dan fungsi interlock listrik
Area peralatan W2m * L3m W2.5m * L3.5m W3m * L4m W4m * L5m W4.5m * L6m W5m * L7m
Parameter teknis lainnya Tekanan Air 0.2MPa, Suhu Air 25 °C, Tekanan Udara: 0.5-0.8MPa
Catatan Konfigurasi khusus peralatan pelapis dapat dirancang sesuai dengan persyaratan proses produk pelapis

Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan Anda solusi pelapisan total.

Label:
magnetron sputtering machine

vacuum deposition equipment

magnetron sputtering equipment

magnetron sputtering machine

magnetron sputtering equipment

magnetron sputtering machine

vacuum deposition equipment

magnetron sputtering equipment

RTSP1200-PCB- Papan Sirkuit Cetak PVD Gold Sputtering

Mesin Pelapis Film Tipis RTSP1213-PECVD, Sistem Deposisi PVD yang Ditingkatkan Sumber Ion Plasma

RTSP1400-PLUS- PVD Sputtering Chrome Untuk Cermin Mobil

DPC Pelapisan Tembaga Langsung Pada Keramik Papan Sirkuit Al2O3 / AlN Mesin Deposisi Tembaga

RTSP950-DLC - Mesin Pelapis Film Tipis PVD Sputtering DLC

18K / 24K Mesin Kustom PVD Inovatif Emas Plating Perhiasan Stainless Steel Cincin Lapisan Emas Nyata

Mesin Deposisi Sputtering Film Tipis Cooper, Peralatan Pelapis film tahan panas Tinggi

Cooper Magnetron Sputtering Coating Machine, chip Keramik Peralatan deposisi film tipis tembaga

Mesin Pelapis Magnetron Sputtering
Pertunjukan	RTSP-700	RTSP-900	RTSP-1000	RTSP-1250	RTSP-1400	RTSP-1600
Ukuran ruang pelapis	700 * H900mm	900 * H1100mm	1000 * H1200mm	1250 * H1350mm	1400 * H1600mm	1600 * H1800mm
Jenis catu daya:	Catu daya filamen, catu daya bias pulsa, catu daya magnetron DC, catu daya magnetron frekuensi menengah, catu daya magnetron frekuensi radio, sumber ionisasi linier
Struktur ruang vakum	Pintu ganda vertikal, struktur pintu depan vertikal, sistem pembuangan udara belakang
Bahan ruang vakum	Rongga baja tahan karat berkualitas tinggi
Batasi vakum	6.0*10-4Pa
Waktu pompa-down (tanpa beban)	Pompa atmosfer ke 8.0 * 10^-3>Pa 15 menit
Sistem akuisisi vakum	Pompa difusi atau pompa molekuler + Pompa akar + Pompa mekanis + pompa baling-baling putar (model spesifik dapat dikonfigurasi sesuai dengan kebutuhan pelanggan)
Mode pelapisan	Lapisan sputtering magnetron
Jenis film	Film logam, film reaktif, film majemuk, film multilayer dan film semikonduktor
Jenis target magnetron	Target magnetron persegi panjang, target magnetron silinder dan target magnetron kembar
Daya suplai magnetron dan jumlah target magnetron	Pilih sesuai dengan proses pelapisan dan kebutuhan pelanggan yang berbeda
Catu daya bias	10KW/1 unit	20KW/1 unit	20KW/1 unit	30KW/1 unit	40KW/1 unit	50KW/1 unit
Mode putar meja putar benda kerja	Revolusi planet dan autorotasi, pengaturan kecepatan frekuensi variabel (dapat dikontrol dan disesuaikan)
Gas proses	Kontrol aliran gas dan sistem tampilan 3-jalur atau 4-jalur, sistem gas otomatis selektif
Mode pendinginan	Mode pendinginan sirkulasi air, menara air pendingin atau pendingin air industri atau sistem pendingin dalam.(Disediakan oleh pelanggan)
Mode kontrol	Mode integrasi manual/otomatis, operasi layar sentuh, PLC atau kontrol komputer
Kekuatan total	30KW	35KW	40KW	50KW	65KW	80KW
Alarm dan perlindungan	Alarm kekurangan air, arus lebih dan tegangan berlebih, sirkuit terbuka dan kondisi abnormal lainnya dari pompa, target, dan sebagainya dan lakukan tindakan perlindungan yang relevan dan fungsi interlock listrik
Area peralatan	W2m * L3m	W2.5m * L3.5m	W3m * L4m	W4m * L5m	W4.5m * L6m	W5m * L7m
Parameter teknis lainnya	Tekanan Air 0.2MPa, Suhu Air 25 °C, Tekanan Udara: 0.5-0.8MPa
Catatan	Konfigurasi khusus peralatan pelapis dapat dirancang sesuai dengan persyaratan proses produk pelapis