Pelapis Fungsional PVD- Sistem Deposisi Film Tipis Sputtering Emas

 Emasmemiliki warna kuning kemerahan yang cerah dalam bentuk yang paling murni.jadi tetap sangat stabil dalam kondisi normal dan konduktivitas listriknya konstanIni adalah salah satu logam mulia yang paling umum digunakan dalam finishing.

Emas tahan korosi, yang membuatnya menjadi finishing yang baik untuk pin konektor dan kontak saklar listrik.

Plating emas digunakan dalam bagian dan komponen di berbagai industri utama:

1. Aplikasi medis: implan tubuh
2. Energi: sel bahan bakar hidrogen Plat bipolar
3. Semikonduktor: chip mikroelektronik
4. Aerospace & pertahanan
5. Telekomunikasi dan lainnya

ROYAL Technology menyediakan solusi pelapis turnkey untuk produsen yang mencari tim yang dapat diandalkan untuk kerja sama jangka panjang.

Desain yang kuat, batch besar, siklus cepat, proses pelapisan yang fleksibel adalah konsep desain dasar yang telah dikejar oleh tim Royal.

Keuntungan Desain

1. Penghematan energi: desain kompak dan pompa molekul diterapkan
2. Penggunaan target tinggi hingga 40% dengan katode penyemprotan planar
3. Ketebalan film emas Au yang disemprotkan dapat dikontrol
4. Sistem operasi One-Touch

PVD Pengendapan penyemprotan emas

1. Ketika datang ke kaca, paduan logam dll Substrat material, lapisan ikatan sangat penting untuk meningkatkan adhesi substrat dan Auffilm.Royal Technology telah mengembangkan berbagai resep pelapis matang berdasarkan aplikasi yang berbeda, mendukung pelanggan kami dengan saran profesional.
2. Keruwetan (RMS √ akar rata-rata persegi) < 40Å diharapkan untuk sebagian besar aplikasi. Untuk aplikasi probe pemindaian tertentu keruwetan yang lebih rendah mungkin diperlukan, umumnya 1,5 ~ 4 nm.
3. kemurnian permukaan lapisan penyemprotan emas: permukaan bersih diperlukan untuk aplikasi yang menggunakan modifikasi permukaan emas.kemurnian asli sumber emas (lebih dari 99.99% secara umum)
   
    

   Spesifikasi teknis:

   Model: RTSP800

   TEKNOLOGI: DC Sputtering + sumber ion (untuk pilihan)

   MATERIAL: Baja tahan karat

   Ukuran kamar: Φ800*H800mm

   Tipe kamar: Silinder, vertikal, 1 pintu

   SISTEM RAKK ROTARY: Penggerak planet/pusat

   MATERI DEPOSISI: Emas, Aluminium, Perak, Tembaga, Kromium, Baja Tidak Berlemak, Nikel, Titanium

   Sumber Deposisi: Katode Sputtering Planar,

   Katode busur konvensional untuk pilihan ((sesuai dengan persyaratan proses pelapisan)

   Kontrol gas reaktif: MFC, 2/4 cara

   CONTROL PLC ((Programmable Logic Controller) + IPC

   Sistem pompa:
   SV300B 1 set (Leybold) 300m3/jam

   Pompa Akar 1 set, 490m3/jam

   Pump Holding 1 set, 60m3/jam

   Pompa Molekuler Turbo: ¢ 1 set, 3500L/S

   Sumber Daya: Sumber daya bias: 1*24 KW

   Daya penyemprotan DC: 12KW

   Sumber ion linier: 5KW

   SISTEM KEAMAN:Banyak penguncian keamanan untuk melindungi operator dan peralatan

   PEMANDINGAN Daur ulang: Air pendingin

   Pemanasan: Pemanas, 9KW

   Kekuatan Listrik:
   480V/3 fase/60HZ (sesuai dengan AS)

   460V/3 fase/50HZ (sesuai Asia)

   380V/3 fase/50HZ (sesuai dengan CE-EU)

   TEMPO: L3200*W2600*H2000mm

   Total Berat: 4,0 T

   WAKTU SIKLIS: 30 ~ 40 menit (tergantung pada bahan substrat, geometri substrat dan kondisi lingkungan)

   Kekuatan maksimum: 50KW

   Konsumsi daya rata-rata (DEKAT): 20KW

   

Insite

Silakan hubungi kami untuk informasi lebih lanjut, kami selalu terbuka untuk berkomunikasi dan berbagi dengan Anda teknik canggih.