October 11, 2022
Model Mesin: RT1200-FCEV
Teknologi: dengan PECVD + PVD Magnetron Sputtering Penyetoran: Target Si, Cr, Karbon, untuk menghasilkan medan magnet tertutup yang tidak seimbang untuk kepadatan tinggi, keseragaman tinggi, dan deposisi film ketahanan korosi yang sangat baik.
Waktu Pembuatan: 2016
Lokasi: Shanghai, Cina
Instalasi & Pengujian: 3 hari
Komisioning & Pelatihan: 7 hari
IniRT1200-FCEVsistem deposisi sputtering magnetron vakum tinggi adalah model yang dibuat khusus yang mengacu pada model Multi950-R&D yang telah kami bangun untuk Universitas Shanghai.
Ini dirancang dengan ruang Oktal, kinerja yang fleksibel dan andal banyak digunakan dalam berbagai aplikasi.Ini memenuhi proses pelapisan yang membutuhkan lapisan logam yang berbeda: Ta, Cr, Si, Grafit, Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS dan banyak logam non-feeromagnetik lainnya;ditambah unit sumber Ion, secara efisien meningkatkan adhesi film pada bahan substrat yang berbeda dengan kinerja etsa plasma dan, proses PECVD untuk menyimpan beberapa lapisan berbasis karbon.
Struktur Peralatan: Orientasi vertikal, struktur segi delapan, 2 pintu (bukaan depan dan belakang) untuk akses mudah.
Fitur Peralatan:
Sistem ramah lingkungan, tidak ada limbah berbahaya.
Integrasi total, desain modular
Dikomersialkan dan distandarisasi untuk produksi massal industri
Sumber ion yang sangat efisien untuk daya rekat kuat dan ionisasi tinggi.
Pengoperasian yang Mudah: Layar sentuh + kontrol PLC, operasi satu sentuhan
Dengan perangkat lunak Royal Tech, parameter proses dapat diprogram, disimpan, dan direproduksi.
Desain khusus sistem Carousel untuk deposisi keseragaman tinggi.
Produktivitas dan stabilitas tinggi, bekerja 24/7 seminggu.
Fleksibel, cocok dengan berbagai ukuran pelat, untuk pelapis sisi tunggal atau ganda.
Hubungi kami silahkan untuk informasi lebih lanjut.
