| Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu, |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Teknologi Vakum | Arc Evaporation |
| Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic |
| Film Pelapis | Ti, Cr, TiN, TiCN, CrC, TiO dll. |
| Target yang tergagap | Karbon, tembaga, aluminium, ito, ti, cr, stainless steel dll |
|---|---|
| teknologi | DC / MF Magnetron Sputtering Cathode |
| Pra-pembersihan | Linear Anode Ion Source Plasma Pra-perawatan |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| nama | Mesin deposisi vakum CsI |
|---|---|
| Bahan Deposisi | Cs I, deposisi vakum |
| Aplikasi | Layar sinar-X medis, Pencitraan Gigi, Pemeriksaan Keamanan, Fisika energi tinggi |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Layanan di Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |
| Sumber Penguapan | Cawan lebur molibdenum |
|---|---|
| Bahan Deposisi | CsI, deposisi vakum |
| Aplikasi | Layar sinar-X medis, Pencitraan Gigi, Pemeriksaan Keamanan, Fisika energi tinggi |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Layanan di Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |
| Ruang | Orientasi Horisontal, 1 pintu, |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD |
| Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic |
| Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
| Sumber Deposisi | Penguapan busur |
|---|---|
| Film Deposisi | TiN TiO pelapisan busur |
| Aplikasi | alat kelengkapan kamar mandi keramik, mosaik kaca, tempat lilin kaca, produk dekorasi kaca, |
| Fitur Film | ketahanan aus, adhesi yang kuat, warna pelapis dekoratif |
| Pelapis PVD | TiN, TiO, TiC, TiAlN, TiAlC, CrC, ZrN, CrN, CrCN dll |
| Aplikasi | Industri elektronik, industri lain membutuhkan fungsi pelindung Interferensi Magnetik Listrik |
|---|---|
| Bahan Pelapis | Tembaga dan Stainless Steel, Aluminium, Chrome, Titanium dll. |
| Teknologi PVD | Penguapan filamen tungsten, DC Magnetron Sputtering |
| nama Peralatan | PVD. Sputtering Coating Plant, mesin pelapisan vakum PVD, metallizion vakum, metallizer vakum, depo |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Sumber Penguapan | Katoda sputtering, sputter gun, DC. Model MF |
|---|---|
| Bahan Deposisi | Si, Ti, Aluminium, emas, perak, kromium, tembaga, Indium, Indium Tin Oksida, Nikel |
| Nama | Mesin Ion Plating |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| nama | Mesin Deposisi Sputtering Tantalum PVD |
|---|---|
| Pelapisan | Tantalum, Emas, Perak dll. |
| Teknologi | Sputtering DC berdenyut |
| Aplikasi | Industri mikroelektronika, Instrumen medis, Pelapisan pada bagian yang tahan korosi,, |
| Properti film Ta | Tantalum paling banyak digunakan dalam industri elektronik sebagai lapisan pelindung karena ketahana |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu, |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Teknologi Vakum | Cathodic Multi Arc plating, deposisi arc PVD |
| Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic |
| Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
