| Sumber Deposisi | Steed Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
| Properti Plating PVD | Ketahanan aus yang tinggi, Kekerasan tinggi pada suhu operasi yang tinggi, Ketahanan oksidasi yang t |
| Fitur Peralatan | Desain yang andal, Fleksibel, stabil, kuat, hasil tinggi, waktu siklus cepat, kapasitas batch besar |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Sumber Deposisi | Sumber Arc Cathodic, magnetron DC / MF Sputtering Cathodes |
|---|---|
| Penyepuhan PVD Emas | Au emas nano-struktur deposisi film tipis, Emas tipis film magnetron sputtering, PVD emas sputtering |
| Ukuran peralatan | Dia: Tinggi 800 * 800mm |
| Industri Terapan | Laboratorium Universitas, departemen Litbang pabrik bahan logam, |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi vertikal, 2 pintu |
|---|---|
| Bahan | baja tahan karat 304/316 |
| Sumber Deposisi | Katoda Sputtering DC |
| Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
| Aplikasi | dekorasi perhiasan, jam tangan, pelapis film konduktif, film logam, elektronik, sel bahan bakar, ene |
| Target yang tergagap | Karbon, tembaga, aluminium, ito, ti, cr, stainless steel dll |
|---|---|
| teknologi | DC / MF Magnetron Sputtering Cathode |
| Pra-pembersihan | Linear Anode Ion Source Plasma Pra-perawatan |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| teknologi | DC / MF magnetron sputtering cathode |
|---|---|
| Pra-pembersihan | Pra-perawatan plasma sumber Anode Ion |
| Katup sputtering | MF 4 set; DC 2 set |
| Target yang tergagap | Karbon, tembaga, aluminium, ito, ti, cr, stainless steel dll |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Magnetron Sputtering Katoda | Katoda Planar atau Silinder |
|---|---|
| Model Daya | DC, MF |
| Sumber Deposisi | busur katodik, magnetron sputters |
| Pembersihan plasma | Pemboman Plasma Bias Berdenyut |
| Sumber ion | Jenis lapisan anoda linier |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 2 pintu |
|---|---|
| Teknologi | Lapisan Vakum Sputtering Magnetron DC |
| Film Deposisi | Al, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr dll. |
| Aplikasi | Hub mobil, roda otomotif, pelapisan PVD Chrome |
| Fitur Film | ketahanan aus, daya rekat kuat, warna pelapis dekoratif |
| Film Deposisi | Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr dll. |
|---|---|
| Aplikasi | Al2O3, papan sirkuit keramik AlN, pelat Al2O3 pada LED, semikonduktor |
| Fitur Film | konduktivitas termal yang lebih baik, adhesi yang kuat, kepadatan tinggi, biaya produksi rendah |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Model pemercikan | Tidak seimbang / seimbang dengan DC, MF, RF |
|---|---|
| Sumber sputtering | Planar Sputter atau Cylinder Sputter |
| Target tergagap | Chromium, Tembaga, Aluminium, Nikel, Perak, Emas, Baja Tahan Karat |
| Aplikasi | Velg Mobil, Cermin Mobil, Deposisi Sputtering Perak Dan Emas, Instrumen Medis |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Fitur Film | Reflektif Tinggi, Korosi Sangat Baik Dan Tahan Aus |
| Nama | mesin pelapisan krom |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
