Mengirim pesan

rincian produk

Created with Pixso. Rumah Created with Pixso. Produk Created with Pixso.
Mesin Lapisan Laboratorium PVD
Created with Pixso.

Laboratorium DC dan RF Sputtering Coating Machine, DC / MF Sputtering Lab.Coating Unit, R & D Lab. Sistem Sputtering

Laboratorium DC dan RF Sputtering Coating Machine, DC / MF Sputtering Lab.Coating Unit, R & D Lab. Sistem Sputtering

Nama merek: ROYAL
Nomor Model: RTSP-400
MOQ: 1 Set
harga: dapat dinegosiasikan
Ketentuan Pembayaran: L / C, T / T
Kemampuan Penyediaan: 10 sets per bulan
Informasi Rinci
Tempat asal:
BUATAN CHINA
Sertifikasi:
CE certification
Ruang:
Orientasi horisontal
Sumber sputtering:
MF, DC dan RF
Katoda Sputtering:
Jenis Planar Edaran
Sputtering Target:
Al2O3, TiO, ITO, Cr, Zr, Au emas
Lokasi Pabrik:
kota shanghai, cina
Lokasi Pabrik:
kota shanghai, cina
Lokasi Pabrik:
kota shanghai, cina
Layanan di Seluruh Dunia:
Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India
Layanan Pelatihan:
Pengoperasian mesin, perawatan, proses pelapisan Resep, program
Jaminan:
Garansi terbatas 1 tahun gratis, seumur hidup untuk mesin
Jaminan:
Garansi terbatas 1 tahun gratis, seumur hidup untuk mesin
OEM & ODM:
tersedia, kami mendukung desain dan fabrikasi yang dibuat khusus
Kemasan rincian:
Standar ekspor, dikemas dalam kasus / karton baru, cocok untuk transportasi laut / udara dan darat j
Menyediakan kemampuan:
10 sets per bulan
Menyoroti:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

Deskripsi Produk
Laboratorium Magnetron Sputtering Vacuum Coating System

1. Sistem sputtering UHV dilengkapi dengan

  • Senjata sputtering DC untuk mendepositkan bahan semi konduktif dan tidak konduktif (Si, SiO2, Al2O3, Si3N4, Cr2O3, ITO dan bahan lainnya).
  • Senapan sputtering RF untuk mendepositkan bahan konduktif Aluminium, Silver, Gold dll.
  • Sumber catu daya DC dan RF dapat dipertukarkan fleksibel.

2. Aplikasi sistem sputtering UHV dari

  • Lapisan konduktif pada bahan polimer, kayu, kain pada suhu rendah kurang dari 100 ℃

Penerapan pelapis konduktif pada kaca, keramik dan bahan dielektrik lainnya.

3. Kinerja Teknis:

3. Tekanan Vacuum Ultimate: lebih baik dari 5,0 × 10 - 6 Torr.

3. Tekanan Vacuum Operasi: 1.0 × 10 - 4 Torr.

3. Waktu Pumpingdown: dari 1 atm hingga 1.0 × 10 - 4 Torr≤ 3 menit (suhu kamar, ruang kering, bersih dan kosong)

3. 4. Metalizing material (sputtering) Al, Cr, Sn, Ti, SS, Cu ... dll.

3. Model Operasi: Full Automatically / Semi-Auto / Manual

4. Struktur

Mesin pelapis vakum UHV Sputtering berisi sistem lengkap yang tercantum di bawah ini:

1. Kamar Vakum

2. Rouhging Vacuum Pumping System (Backing Pump Package)

3. Sistem Vacuum Pumping Tinggi (Difusion Pump)

4. Sistem Pengendalian dan Pengoperasian Listrik

5. Sistem Fasilitas Auxiliarry (Sub Sistem)

6. Sistem Deposisi

Untuk spesifikasi lebih lanjut, silahkan hubungi kami. Pertanyaan yang disepakati disambut baik.