Mesin Pelapis Sputtering Magnetron PVD

1. Magnetron sputtering adalah proses pelapisan plasma dimana oleh gagapmaterial terlontar karena bombardir ion ke permukaan target.Ruang vakum mesin pelapis PVD diisi dengan gas inert, seperti argon.

2. Peralatan Lapisan Sputtering Magnetron- jenis batch berisi komponen kunci berikut:

Magnetron Sputtering Cathode: Cylinder atau Planar Type;

Catu Daya: Pulsa DC, MF, RF

Sumber ion: umumnya untuk bagian plastik / kaca / keramik / logam untuk pemakaian cahaya, pembersihan plasma.

Bias Power Supply: hanya bekerja pada benda kerja yang bersifat konduktif: baja, besi, paduan baja, zamak, paduan aluminium, kuningan dll.

Paket Pompa Vakum: Pompa Baling-Baling Putar, Pompa Piston Putar, Pompa Akar, pompa difusi / pompa molekul turbo, pompa penahan, dll.

Lainnya: Katup gerbang / pengukur vakum, MFC, alat kelengkapan vakum dan jalur pipa vakum, umpan melalui,

3. RTSP peralatan pelapis seri digunakan untuk produksi pelapis fungsional konduktif, non-konduktif, tujuan estetika.

A. Aplikasi: pelapis ITO pada kaca untuk layar sentuh, display;kaca arsitektur;industri otomotif: roda & pelek mobil, kaca spion, lampu kepala, lampu belakang, interior & eksterior plastik;peralatan makan & dapur, perhiasan, olah raga dan mainan, pengganti pelapisan air.

B.Bahan pelapis:

Logam: Ti (Titanium), Cr Chromium), Zr (Zirkonium), Cu (Tembaga), Al (Aluminium), Ni (Nikel),

SUS316 (Baja tahan karat) ...

Paduan Logam: Paduan Ti-Al, paduan Ni-Ca (Nikel - Kadmium), ITO (Indium Tin Oxide)

C.Metode sputtering: DC / MF / RF

D. Fitur: deposisi suhu rendah

4. Model Mesin Pelapis Magnetron Sputtering

5. Mesin Pelapis Magnetron Sputtering

Waktu Dibangun: 2016
Lokasi: Cina
Industri: Lapisan film konduktif Cu pada lembaran keramik

6. Sampel Lapisan Sputtering Perak

Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan Anda solusi pelapisan total.