PVD Chrome/PVD Nikel
Lapisan Film Dekoratif PVD
October 12, 2023
Obrolan
PVD krom -- dari refleksi rendah ke tinggi;
dari cahaya ke warna krom lebih gelap
Magnetron Sputtering:
Proses: Magnetron sputtering melibatkan penggunaan plasma tekanan rendah dan medan magnet untuk menghasilkan debit plasma di dalam ruang deposisi.
Bahan target: Bahan target dapat menjadi grafit atau target logam lainnya (misalnya, titanium atau kromium) dengan gas yang mengandung karbon yang dimasukkan ke dalam ruang.
Ionisasi dan Deposisi: Pelepasan plasma menyebabkan sputtering ion logam dari target, yang kemudian dipercepat ke permukaan kasus jam tangan.gas yang mengandung karbon terurai menjadi ion karbon, yang mengikat dengan ion logam di permukaan, membentuk lapisan DLC.
Keuntungan:
Memungkinkan kontrol yang lebih baik atas komposisi lapisan.
Dapat mencapai keseragaman ketebalan pelapis yang baik.
Menawarkan fleksibilitas dalam menggunakan bahan target yang berbeda untuk meningkatkan sifat pelapis.
Pelapis sputtering magnetron PVD
mesin pelapis penyemprotan
Deposisi magnetron sputtering
Krom PVD
Aluminium Meallization
Selesai Krom PVD
PVD Nikel