Lapisan Keras pada Alat

Lapisan keras, yang dibentuk oleh proses Deposisi Uap Fisik (PVD) reaktif, berdasarkan teknologi plasma, menjadi banyak digunakan dalam industri perkakas.

Sumber penguapan yang paling umum untuk pelapisan ion lapisan keras adalah sumber semburan magnetron tidak seimbang, dan sumber penguapan busur katodik.Pemboman selama deposisi umumnya dicapai dengan menerapkan bias negatif (-200 hingga -300 volt) ke substrat dan mempercepat ion positif ke permukaan dari plasma.Rasio tinggi ion bombardir untuk menyimpan atom penting untuk memadatkan bahan deposit.Dalam sumber sputtering magnetron tidak seimbang, beberapa atom sputtering terionisasi;tetapi dalam sumber busur katodik, persentase yang tinggi dari atom yang menguap terionisasi.Karena "ion film" ini memiliki massa yang lebih tinggi daripada ion gas, mereka lebih mampu memercikkan permukaan dan memadatkan film dengan "pengencangan atom".

Pelapis alat industri biasanya memiliki ketebalan 1,5 hingga 4 mikron.

SPESIFIKASI RTAC-1214: