| Teknologi Pelapisan | Sputtering, Evaporasi, Plasma Treater |
|---|---|
| Fitur Peralatan | Struktur Kokoh, Desain Jejak Ringkas, Efisiensi Tinggi, dan Kontrol Operasional Presisi |
| Aplikasi Pelapisan | Kertas Elektronik, Film ITO, Sirkuit Fleksibel, Fotovoltaik, Strip Medis, dan RFID. |
| Kontrol Operasi | Kontrol PLC dan IPC yang Intuitif |
| Layanan dan Pelatihan | Tersedia, Dari Insinyur Dan Teknisi AS |
| Teknologi Pelapisan | Sputtering, Evaporasi, Plasma Treater |
|---|---|
| Fitur Peralatan | Struktur Kokoh, Desain Jejak Ringkas, Efisiensi Tinggi, dan Kontrol Operasional Presisi |
| Aplikasi Pelapisan | Kertas Elektronik, Film ITO, Sirkuit Fleksibel, Fotovoltaik, Strip Medis, dan RFID. |
| Kontrol Operasi | Kontrol PLC dan IPC yang Intuitif |
| Layanan dan Pelatihan | Tersedia, Dari Insinyur Dan Teknisi AS |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Fitur Film | Reflektif Tinggi, Korosi Sangat Baik Dan Tahan Aus |
| Nama | tembaga Sistem Magnetron Sputtering |
| Teknologi | Vacuum Flask Deposisi Cooper PVD |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 1 pintu |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Teknologi Vakum | Arc Evaporation, Arc Ion Plating |
| Sumber Deposisi | Cylinder Arc Atau Circular Arc Cathodes |
| Film Pelapis | Pelapisan Film Logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Chromium Nitrida, TiAlN |
| Sumber Deposisi | DC magnetron Sputtering Cathodes |
|---|---|
| Plating Perak | Pelapisan PVD, Pelapisan Perak, Pelapisan Listrik, Adhesi |
| Aplikasi | Silver Plating pada rumah lampu untuk refleksi tinggi |
| Fitur Film | refleksi tinggi, adhesi yang kuat, warna pelapis dekoratif |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi Vertikal, 1-PINTU |
|---|---|
| Bahan | Stainless Steel 304/316 |
| Fitur Film | Reflektif Tinggi, Korosi Sangat Baik Dan Tahan Aus |
| Fitur | Ag. Au, SS, Cu dll. Metalisasi logam murni |
| Aplikasi | Resin, Produk Plester |
| Sumber Deposisi | Steed Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode |
|---|---|
| Teknik | PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang |
| Properti Plating PVD | Ketahanan aus yang tinggi, Kekerasan tinggi pada suhu operasi yang tinggi, Ketahanan oksidasi yang t |
| Fitur Peralatan | Desain yang andal, Fleksibel, stabil, kuat, hasil tinggi, waktu siklus cepat, kapasitas batch besar |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Sumber Pengendapan | Arc Cathodes, magnetron sputtering |
|---|---|
| Film Pelapis | Pelapisan film logam, Titanium Nitrida, Titanium Karbida, Zirkonium Nitrida, Kromium Nitrida, TiAlN, |
| Lokasi Pabrik | Kota Shanghai, Cina |
| Layanan Seluruh Dunia | Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India |
| Layanan Pelatihan | Pengoperasian mesin, perawatan, proses pelapisan Resep, program |
| Target yang tergagap | Karbon, tembaga, aluminium, ito, ti, cr, stainless steel dll |
|---|---|
| teknologi | DC / MF Magnetron Sputtering Cathode |
| Pra-pembersihan | Linear Anode Ion Source Plasma Pra-perawatan |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Lokasi Pabrik | kota shanghai, cina |
| Ruang | Orientasi vertikal, 1 pintu |
|---|---|
| Bahan | baja tahan karat 304/316 |
| Fitur film | Reflektif Tinggi, Korosi Yang Sangat Baik Dan Ketahanan Aus |
| Nama | Sistem Sputtering Magnetron tembaga |
| Teknologi | Deposisi Vacuum Flask PVD Cooper |
