Mesin pelapis fungsional film tipis PVD / Peralatan pelapis keras PVD pada Alat

Pelapisan keras, dibentuk oleh proses Fisik Deposisi Uap (PVD) reaktif, berdasarkan teknologi plasma, menjadi banyak digunakan dalam industri alat.
Untuk mendapatkan lapisan yang paling keras, tegang, tahan aus dan tahan korosi, suhu substrat harus setinggi mungkin, dan pemboman serentak oleh partikel seukuran atom yang energetik (pelapisan ion) selama pengendapan reaktif harus digunakan. Misalnya, dalam latihan pelapisan baja yang dikeraskan, substrat dipanaskan hingga 450 ℃ atau lebih sebelum pengendapan dimulai. Pra-pemanasan ini dapat dilakukan dengan pengeboman ion, yang juga mengacaukan membersihkan permukaan, atau dengan menggunakan sumber pemanas lain di ruang pengendapan.
Selama proses pelapisan keras PVD untuk alat, itu tidak mengubah dimensi fisik bagian secara signifikan.
Gas plasma yang digunakan untuk deposisi reaktif adalah campuran dari argon, nitrogen dan ethyne. Komposisi pelapis bervariasi dengan memvariasikan campuran gas.

Sumber penguapan yang paling umum untuk pelapisan ion pelapis keras adalah sumber-sumber sputtering magnetron tidak seimbang, dan sumber penguapan katodik-busur. Pengeboman selama pengendapan umumnya dicapai dengan menerapkan bias negatif (-200 hingga -300 volt) ke substrat dan mempercepat ion positif ke permukaan dari plasma. Rasio ion bombardir yang tinggi terhadap atom yang mengendap penting untuk memadatkan bahan endapan. Dalam sumber sputtering-magnetron yang tidak seimbang, beberapa atom yang tergagap terionisasi; tetapi dalam sumber busur katodik, sebagian besar atom yang diuapkan diionisasi. Karena "ion film" ini memiliki massa yang lebih tinggi daripada ion gas, mereka lebih mampu merusak permukaan dan memadatkan film dengan "atom peening."

Pelapis alat industri biasanya memiliki ketebalan 1,5 hingga 4 mikron.

Referensi Umum: Pedoman Pendidikan untuk Pemrosesan Pelapisan Vakum, ditulis oleh Donald M. Mattox, 2009 oleh Society of Vacuum Coater.

Aplikasi:

Pelapis keras menjadi banyak digunakan dalam pelapisan dekoratif dan alat industri (HSS atau HSC
bahan). Lapisan lebih tahan terhadap aus dan korosi, untuk memenuhi fungsi alat lebih andal dan untuk waktu hidup yang lebih lama, 2-3 kali lebih lama daripada tanpa lapisan pada umumnya.
Alat Pemotong: (Lapisan yang Disarankan: AlTiN / TiAlN, TiCN, dan TiN)

Menggergaji, penggilingan, insert CNC (menggunakan balik keras), pengeboran, hobbing dan pemotong gigi dll.
Punching & Forming (Lapisan yang Disarankan: CrN, TiCN, dan TiN)
Stamping logam
Moulding (Cetakan Injeksi Plastik) - (Lapisan yang Disarankan: TiCN dan TiN)
Die Casting
Komponen presisi
Lainnya, seperti: peralatan mesin, mesin texitile, pelapisan ulang, aplikasi penajaman ulang dll.

Deskripsi Mesin Lapisan Film Tipis

1. Sistem peralatan RT-HAC terdiri dari: ruang vakum, pompa vakum, sumber busur, spindle & jack, struktur jig, pemanasan & pendinginan, air & gas (distribusi), kontrol listrik & sistem operasi dll.
2. Aplikasi: pelapis fungsional industri untuk alat keras.
3.Coating Film: TiN, TiC, CrN, AlTiN dll.
4.Coating Keuntungan: kekerasan tinggi dan ketahanan aus dan korosi, peningkatan waktu hidup alat & kualitas benda kerja yang ditingkatkan. "

PVD (Physical Vapor Deposition) adalah teknologi perawatan permukaan yang banyak digunakan dan canggih di dunia saat ini. Itu benar-benar bisa mendapatkan lapisan mikrometer dan perawatan permukaan lingkungan bebas polusi. Dalam keadaan vakum, bahan pelapis diuapkan dengan metode fisik ion dan disimpan ke dalam pelapis pada permukaan produk.
Fitur pelapisan PVD:

(1) adhesi yang sangat baik: lapisan PVD memiliki daya rekat tinggi dan daya tahan. Ini dapat diterapkan untuk menekuk pada sudut yang berbeda tanpa retak atau spalling. Dapat digunakan untuk dekorasi dalam dan luar.
(2) anti-oksidasi, ketahanan korosi: sifat kimia yang stabil, di lingkungan normal, dalam dan luar ruangan bisa menjadi antioksidan, tidak mudah pudar, mempertahankan kilau logam.
(3) meningkatkan kekerasan permukaan: kekerasan film diukur dengan Micro, hingga HV2250
Jenis dan ketebalan lapisan pelapis
(1) spesies pelapis:
Teknologi pelapisan PVD dapat menyiapkan film nitrida (TiN [emas titanium), ZrN [emas zirkonium], CrN, TiAlN] dan film karbida (TiC, TiCN), dan film oksida (TiO, dll.).
(2) ketebalan lapisan film:
Ketebalan film adalah mikrometer, dan ketebalan film pelapis umumnya 0,3 um ~ 0,5 mu

Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan Anda solusi pelapisan total.