Precision Fasteners PVD Thin Film Plating Machine / Nano Tipis Film Dekorasi PVD Selesai
Apa itu PVD?
PVD (nama pendek dari Physical Vapor Deposition) adalah proses pelapisan vakum untuk menghasilkan lapisan tipis berbasis konformal logam yang dapat diendapkan secara merata pada permukaan konduktif elektrik. Dengan menggunakan penguapan ion Arc dan metode sputtering magnetron MF, lapisan pelapis tunggal memberikan cakupan yang cukup luas tanpa memodifikasi profil permukaan. Teknik ini digunakan di banyak industri elektronik termasuk media optik, optik dan komponen semikonduktor.
Sifat Film Tipis PVD
Precision Fasteners PVD Thin Film Plating Machine diaplikasikan dengan pengencang dan alat kelengkapan seperti sekrup, baut, crushes, fitting, caps yang digunakan pada kosmetik, produk elektronik, mesin mekanik, industri otomotif yang banyak menggunakan teknologi PVD untuk mendapatkan berbagai warna Panton, range emas, hitam, biru, abu-abu, perak, pelangi, perunggu, champage dll.
Precision Fasteners PVD Thin Film Plating Machine Deposition Sources
Mengarahkan sumber Circular Arc untuk penguapan target logam padat;
2 pasang katoda sputtering MF unblanced untuk endapan lapisan film tipis grafit;
Bias Power Supply untuk pengeboman ion untuk membentuk area plasma untuk pra-perawatan;
Unit Sumber Ion Linear Ioda (untuk pilihan) pemrosesan PACVD dan PECVD;
Cryopump (Polycold) untuk kondensasi molekul air (untuk pilihan)
Presisi pengencang PVD Thin Film Plating struktur mesin
1. Kamar Vakum
2. Rouhging Vacuum Pumping System (Backing Pump Package)
3. Sistem Vacuum Pumping Tinggi (Magnetic Suspension Molecular Pump)
4. Sistem Pengendalian dan Pengoperasian Listrik
5. Sistem Fasilitas Auxiliarry (Sub Sistem)
6. Sistem Deposisi: MF sputtering katoda, power supply MF, Bias Power Supply Ion sumber untuk opsional
Precision Fasteners PVD Thin Film Plating Machin Performance
1. Tekanan Vacuum Ultimate: lebih baik dari 5,0 × 10 - 6 Torr.
2. Tekanan Vacuum Operasi: 1.0 × 10 - 4 Torr.
3. Waktu Pumpingdown: dari 1 atm sampai 1.0 × 10 - 4 Torr≤ 3 menit (suhu kamar, ruang kering, bersih dan kosong)
4. Metalizing material (sputtering + Arc evaporation): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, dll.
5. Operating Model: Full Automatically / Semi-Auto / Manual
Precision Fasteners Spesifikasi Film Plating Tipis Tipis PVD
MODEL | RTAC1250-SPMF | ||||||
TEKNOLOGI | MF Magnetron Sputtering + Ion Plating | ||||||
BAHAN | Stainless Steel (S304) | ||||||
CHAMBER UKURAN | Φ1250 * H1250mm | ||||||
CHAMBER TYPE | Silinder, vertikal, 1 pintu | ||||||
SISTEM SPUTTERING | Desain eksklusif untuk deposisi film hitam tipis | ||||||
BAHAN DEPOSISI | Aluminium, Perak, Tembaga, Chrome, Stainless Steel, Nikel | ||||||
SUMBER DEPOSISI | 2 set MF Cylindrical Sputtering Target + 8 Mengarah Sumber Arc Cathodic + Sumber Ion Untuk opsional | ||||||
GAS | MFC-4 cara, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
KONTROL | PLC (Programmable Logic Controller) + | ||||||
SISTEM POMPA | Set SV300B - 1 (Leybold) | ||||||
WAU1001 - 1 set (Leybold) | |||||||
D60T- 1 set (Leybold) | |||||||
Turbo Molecular Pumps: 2 * F-400/3500 | |||||||
PRA-PERAWATAN | Pasokan daya bias: 1 * 36 KW | ||||||
SISTEM KESELAMATAN | Banyak keamanan saling terkait untuk melindungi operator | ||||||
PENDINGINAN | Air dingin | ||||||
POWER ELECTRICAL | 480V / 3 fase / 60HZ (USA compliant) | ||||||
460V / 3 fase / 50HZ (sesuai dengan Asia) | |||||||
380V / 3 fase / 50HZ (EU-CE compliant) | |||||||
TAPAK | L3000 * W3000 * H2000mm | ||||||
BERAT KESELURUHAN | 7.0 T | ||||||
TAPAK | (L * W * H) 5000 * 4000 * 4000 MM | ||||||
SIKLUS WAKTU | 30 ~ 40 menit (tergantung bahan substrat, geometri substrat dan kondisi lingkungan) | ||||||
POWER MAX .. | 155 KW | ||||||
KEKUATAN RATA RATA KONSUMSI (APPROX.) | 75 KW |
Ukuran mesin yang disesuaikan juga tersedia berdasarkan produk yang diminta.
Silahkan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan solusi pelapisan total.