MF Magnetron Sputtering Coating Machine, MF Sputtering Black Film Coating Plant, Blackish TiCN, CrC Film Vacuum Coater
1 Set
MOQ
negotiable
harga
MF Magnetron Sputtering Coating Machine, MF Sputtering Black Film Coating Plant, Blackish TiCN, CrC Film Vacuum Coater
fitur Galeri Deskripsi Produk Quote request suatu
fitur
Informasi dasar
Tempat asal: BUATAN CHINA
Nama merek: ROYAL
Sertifikasi: CE certification
Nomor model: RTAS1250
Cahaya Tinggi:

magnetron sputtering machine

,

vacuum deposition equipment

Syarat-syarat pembayaran & pengiriman
Kemasan rincian: Standar ekspor, dikemas dalam kasus / karton baru, cocok untuk transportasi laut / udara dan darat j
Waktu pengiriman: 12 minggu
Syarat-syarat pembayaran: L / C, D / A, D / P, T / T
Menyediakan kemampuan: 6 set per bulan
Spesifikasi
Sumber Deposisi: Steering Cathodic Arc + MF Sputtering Cathode
Teknik: PVD, Katoda Sputtering Magentron Seimbang / Tidak Seimbang
Aplikasi: pengencang presisi baja, sekrup, logam kamera
Fitur Film: ketahanan aus, daya rekat kuat, warna pelapis dekoratif
Lokasi Pabrik: kota shanghai, cina
Lokasi Pabrik: kota shanghai, cina
Layanan di Seluruh Dunia: Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India
Layanan di Seluruh Dunia: Poland - Europe; Polandia - Eropa; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India
Layanan Pelatihan: Pengoperasian mesin, perawatan, proses pelapisan Resep, program
Jaminan: Garansi terbatas 1 tahun gratis, seumur hidup untuk mesin
OEM & ODM: tersedia, kami mendukung desain dan fabrikasi yang dibuat khusus
OEM & ODM: tersedia, kami mendukung desain dan fabrikasi yang dibuat khusus
Deskripsi Produk

Metal Graphite Dekorasi MF Sputtering System / Graphite PVD Deposisi Vacuum Coating Plant

Metal Graphite Decoration MF Sputtering System adalah mesin sumber deposisi berganda terintegrasi untuk grafit umum, jet hitam, warna biru dll. Dekorasi pada bagian logam, benda stainless steel. Terutama digunakan untuk produk mewah kelas atas seperti: elektronik: ponsel pintar, kamera, laptop, golf, sendok, garpu, pisau, gagang pintu, keran; perhiasan cincin jari, kalung, cincin telinga, gelang dll.

Metal Graphite Decoration MF Sputtering System memiliki banyak sumber pengendapan:
Sumber-sumber Circular Circular Arc untuk penguapan target logam padat;

2 pasang MF sputtering unblanced untuk deposisi lapisan film tipis grafit;

Catu Daya Bias untuk penimbunan ion untuk membentuk area plasma untuk pra-perawatan;

Unit Sumber Ion Linear Anoda (untuk opsional) pemrosesan PACVD dan PECVD;

Cryopump (Polycold) untuk kondensasi molekul air (untuk opsional)

Apa itu MF Sputtering?

Dibandingkan dengan DC dan RF sputtering, Mid-Frequency sputtering telah menjadi teknik sputtering film tipis utama untuk produksi massal pelapisan, terutama untuk deposisi film pelapisan film dielektrik dan non-konduktif pada permukaan seperti pelapisan optik, panel surya, banyak lapisan , film bahan komposit dll.

Ini menggantikan RF sputtering karena dioperasikan dengan kHz daripada MHz untuk laju deposisi yang jauh lebih cepat dan juga dapat menghindari keracunan Target selama deposisi film tipis senyawa seperti DC.

Target sputtering MF selalu ada dengan dua set. Dua katoda digunakan dengan arus AC yang dibolak-balik di antara mereka yang membersihkan permukaan target dengan setiap pembalikan untuk mengurangi penumpukan muatan pada dielektrik yang mengarah ke lengkung yang dapat memuntahkan tetesan ke dalam plasma dan mencegah pertumbuhan film tipis yang seragam --- yang kami sebut Keracunan Target.

Performa Sistem MF Sputtering

1. Tekanan Vakum Tertinggi: lebih baik dari 5,0 × 10 - 6 Torr.

2. Mengoperasikan Tekanan Vakum: 1,0 × 10 - 4 Torr.

3. Waktu Pumpingdown: dari 1 atm ke 1.0 × 10 - 4 Torr≤ 3 menit (suhu kamar, ruang kering, bersih dan kosong)

4. Metalizing material (sputtering + Arc evaporation): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, dll.

5. Model Pengoperasian: Penuh Otomatis / Semi-Otomatis / Secara Manual

Struktur Sistem MF Sputtering

Mesin pelapis vakum berisi sistem lengkap kunci yang tercantum di bawah:

1. Ruang Vakum

2. Rouhging Vacuum Pumping System (Paket Pompa Pendukung)

3. Sistem Pemompaan Vakum Tinggi (Pompa Molekul Suspensi Magnetik)

4. Kontrol Listrik dan Sistem Operasi

5. Sistem Fasilitas Bantu (Sub Sistem)

6. Sistem Deposisi: katoda sputtering MF, catu daya MF, sumber Ion Catu Daya Bias untuk opsional

The Metal Graphite Decoration MF Sistem Sputtering ukuran:

Ukuran Ruang Dalam: Dia 1200 mm ~ 1600mm
Tinggi Batin Kamar: 1250mm ~ 1300mm

Ukuran mesin yang disesuaikan juga tersedia berdasarkan permintaan specular produk 3D.

Spesifikasi Sistem MF Sputtering RTAC1250-SPMF

MODEL RTAC1250-SPMF
TEKNOLOGI MF Magnetron Sputtering + Ion Plating
BAHAN Baja Tahan Karat (S304)
UKURAN CHAMBER Φ1250 * H1250mm
JENIS CHAMBER Silinder, vertikal, 1 pintu
SISTEM MENGGUGAT Desain eksklusif untuk deposisi film hitam tipis
BAHAN DEPOSISI Aluminium, perak, tembaga, krom, stainless steel,
Nikel
SUMBER DEPOSISI 2 set Target Sputtering Silinder MF + 8 Sumber Arc Cathodic Kemudi + Sumber Ion Untuk opsional
GAS MFC-4 cara, Ar, N2, O2, C2H2
KONTROL PLC (Programmable Logic Controller) +
SISTEM POMPA SV300B - 1 set (Leybold)
WAU1001 - 1 set (Leybold)
D60T- 1 set (Leybold)
Pompa Molekul Turbo: 2 * F-400/3500
PRE-TREATMENT Catu daya bias: 1 * 36 KW
SISTEM KESELAMATAN Sejumlah kunci pengaman untuk melindungi operator
PENDINGINAN Air dingin
LISTRIK TENAGA LISTRIK 480V / 3 fase / 60HZ (Sesuai dengan USA)
460V / 3 fase / 50HZ (Sesuai Asia)
380V / 3 fase / 50HZ (EU-CE compliant)
TAPAK L3000 * W3000 * H2000mm
BERAT KESELURUHAN 7.0 T
TAPAK (L * W * H) 5000 * 4000 * 4000 MM
WAKTU SIKLUS 30 ~ 40 menit (tergantung pada bahan substrat,
geometri substrat dan kondisi lingkungan)
POWER MAX .. 155 KW

KEKUATAN RATA RATA

KONSUMSI (APPROX.)

75 KW

Silakan hubungi kami untuk spesifikasi lebih lanjut, Royal Technology merasa terhormat untuk memberikan Anda solusi pelapisan total.

Hubungi kami
Faks : 86-21-67740022
Karakter yang tersisa(20/3000)